证券时报e公司讯,据“中国光谷”公众号音信,近日,光谷企业在半导体专用光刻胶限度达成紧要冲突:武汉太紫微光电科技有限公司(简称“太紫微公司”)推出的T150 A光刻胶居品,已通过半导体工艺量产考证,达成配方全自主盘算推算,有望首创国内半导体光刻制造新场面。该居品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的外洋同系列居品UV1610,T150 A在光刻工艺中发扬出的极限分手率达到120nm,且工艺宽宏度更大,融会性更高巨乳 av女優,坚膜后烘留膜率优秀,其对后说念刻蚀工艺发扬更为友好,通过考证发现T150 A中密集图形过程刻蚀,基层介质的侧壁垂直度发扬优异。太紫微公司缔造于2024年5月,由华中科技大学武汉光电国度扣问中心团队创立。
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